三星电子最近开发了一种可重复使用高浓度氟化氢清洗液的系统，目前正在其半导体生产线上对其进行测试。

该系统是重复使用氢氟酸(液化氟化氢)用于半导体的清洗。高纯氢氟酸是2019年7月日本政府实施出口限制的三种半导体材料之一。在该系统中，已经使用过的氟化氢清洗液通过内部循环收集起来，可以重复使用。

氟化氢被用于晶圆的清洗和蚀刻。具体而言，氢氟酸即液态氟化氢用于晶圆清洗，气态氟化氢用于蚀刻。包括斯特拉化学（Stella Chemifa）和森田化学工业（Morita Chemical Industries）在内的日本公司目前供应全球半导体生产过程中使用的90％以上的高纯度氟化氢。

三星电子开发的系统的特点是在晶片背面清洁工艺中重复使用氢氟酸，即在布线工艺之后从晶片表面去除金属污染物。三星电子进行了一系列测试，成功地确保了多达1500种产品的稳定质量，同时重复利用了大约80%的氟化氢混合溶液。

三星电子可能会根据测试结果将该系统应用于整个生产设施。据该公司称，在这种情况下，其氟化氢消耗量可以减少87%。