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衢州市氟硅经贸摩擦预警点
电话:0570-8358589 8021016 联系人:储秋雷 QQ: 地址:衢州市西区白云中大道37号 市级机关综合大楼
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四氟甲烷(CF4)
四氟甲烷是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有应用。
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六氟乙烷(C2F6)
六氟乙烷在半导体与微电子业中用作等离子蚀刻气体、器件表面清洗剂,还可用于光纤生产与低温制冷。因其具有无毒无臭、高稳定性而被广泛应用在半导体制造过程中。随着半导体行业的迅猛发展,对电子特气的纯度要求越来越高,而六氟乙烷由于具有边缘向侵蚀现象极微、高蚀刻率及高精确性的优点,是超大规模集成电路所必需的介质,对半导体行业的发展起着重要的作用。
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三氟化氮(NF3)
三氟化氮在半导体工业中主要用于化学气相淀积(CVD)装置的清洗。三氟化氮可以单独或与其它气体组合,用作等离子体工艺的蚀刻气体。
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六氟化硫(SF6)
六氟化硫具有优良的绝性能和減弧能力,广泛应用于电力设备中的输配电及控制设备行业,是继第一代空气、第二代油之后的第三代绝缘介质。
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六氟化钨(WF6)
六氟化钨(WF6)是目前钨的氟化物中唯一稳定并被工业化生产的品种。它的主要用途是在电子工业中作为金属钨化学气相沉积(CVD)工艺的原材料,特别是用它制成的WSi2可用作大规模集成电路(LSI)中的配线材料。
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八氟丙烷(C3F8)
八氯丙烷是一种稳定性好的全氟化合物,标准状态下为无色气体,在水和有机物中解度都很小。在半导体工业中,八氟丙烷与氧气的混合气用作等离子蚀刻材料,会选择性地与硅片的金属基质作用。
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八氟环丁烷(C4F8)
八氟环丁烷化学性能稳定、无毒无害、温室效应潜能(GWP)值低、消耗臭氧指数(ODP)值为零,是一种无色环保型特种气体。近年来被大量用作制冷剂代替禁用的氯氟烃类化合物,此外也常用于气体绝缘介质、溶剂、喷雾剂、发泡剂、大规模电路蚀刻剂、热泵工作流体以及生产C2F4和C3F6单体的原料等。
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六氟丁二烯(全氟丁二烯,C4F6)
六氟丁二烯又称全氟丁二烯,最初合成出来是作为聚合物的单体,近年对六氟丁二烯的应用研究则主要集中在它作为电子蚀刻气体上。
电子等新兴领域的气体应用不断深化,为工业气体带来了大量新增需求。基于未来几年中国大陆地区半导体、显示面板等主要电子元器件的新增产能较多,以及电子化工材料的进口替代需求强烈,国内电子气体行业将迎来较高增长。
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