四氟甲烷是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有应用。

六氟乙烷在半导体与微电子业中用作等离子蚀刻气体、器件表面清洗剂，还可用于光纤生产与低温制冷。因其具有无毒无臭、高稳定性而被广泛应用在半导体制造过程中。随着半导体行业的迅猛发展，对电子特气的纯度要求越来越高，而六氟乙烷由于具有边缘向侵蚀现象极微、高蚀刻率及高精确性的优点，是超大规模集成电路所必需的介质，对半导体行业的发展起着重要的作用。

三氟化氮在半导体工业中主要用于化学气相淀积(CVD)装置的清洗。三氟化氮可以单独或与其它气体组合，用作等离子体工艺的蚀刻气体。

六氟化硫具有优良的绝性能和減弧能力，广泛应用于电力设备中的输配电及控制设备行业，是继第一代空气、第二代油之后的第三代绝缘介质。

六氟化钨(WF6)是目前钨的氟化物中唯一稳定并被工业化生产的品种。它的主要用途是在电子工业中作为金属钨化学气相沉积(CVD)工艺的原材料，特别是用它制成的WSi2可用作大规模集成电路(LSI)中的配线材料。

八氯丙烷是一种稳定性好的全氟化合物，标准状态下为无色气体，在水和有机物中解度都很小。在半导体工业中，八氟丙烷与氧气的混合气用作等离子蚀刻材料，会选择性地与硅片的金属基质作用。

八氟环丁烷化学性能稳定、无毒无害、温室效应潜能(GWP)值低、消耗臭氧指数(ODP)值为零，是一种无色环保型特种气体。近年来被大量用作制冷剂代替禁用的氯氟烃类化合物，此外也常用于气体绝缘介质、溶剂、喷雾剂、发泡剂、大规模电路蚀刻剂、热泵工作流体以及生产C2F4和C3F6单体的原料等。

六氟丁二烯又称全氟丁二烯，最初合成出来是作为聚合物的单体，近年对六氟丁二烯的应用研究则主要集中在它作为电子蚀刻气体上。